[新聞]三影堂展出“存在與闡釋：光刻”陳偉立個展

2009年8月1日至8月22日,美籍華裔藝術家陳偉立攝影版畫作品系列《存在與闡釋》在草場地藝術區三影堂攝影藝術中心展出。他的作品將攝影和繪畫融為一體。每幅作品融合了與手繪線描結合在一起的攝影影像。

陳偉立作品展覽經歷：

2009年 “陳偉立：浮雕腐蝕版畫” 個展，伊阿華州德梅因藝術中心 策展人：帕特里西亞·希克遜，康涅狄格州哈特福德華茲華斯圖書館藝術博物館當代藝術策展人。

“2009新版畫”，群展 伊利諾伊州芝加哥哥倫比亞大學南方圖形學協會 策展人：羅貝塔·瓦德爾，紐約公共圖書館攝影與版畫前策展人

2008年 “黑白變奏”，群展 紐約布魯克林音樂學院

“2008新版畫/秋季”，群展 紐約國際版畫中心 評委：雅各·路易斯，紐約佩斯版畫中心主任

“2008年明尼蘇達國立版畫雙年展” 明尼蘇達州明尼蘇達州立大學

2007年 “復合型人才國際評選賽” 佛羅里達州塔拉哈斯佛羅里達州立大學美術館

“彼此聯絡”，群展 紐約布魯克林肯特勒國際繪畫空間

“2007新版畫/春季”，群展 紐約國際版畫中心 評委：詹姆斯·西耶拿

2006年 “陳偉立與維克多利亞·格洛-拉波波特：版畫藝術” 賓夕法尼亞州華盛頓與杰斐遜學院

“2005新版畫/秋季” 紐約國際版畫中心/伊利諾伊州芝加哥哥倫比亞大學 評委：南西·普林森塔爾，批評家、作家，《美國藝術》編輯

“物象/基底”，復合媒體展 紐約布魯克林肯特勒國際繪畫空間 由卡特·福斯特評選，紐約惠特尼美國藝術博物館繪畫策展人